游離二氧化硅前處理儀-山東霍爾德電子科技有限公司

HD-Si12粉塵游離二氧化硅分析儀

粉塵游離二氧化硅分析儀依據(jù)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過(guò)程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過(guò)濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過(guò)程無(wú)需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。

訪問(wèn)次數(shù)：309 產(chǎn)品價(jià)格：面議 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家 更新日期：2025-02-08

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HD-Si12全自動(dòng)游離二氧化硅前處理工作站

全自動(dòng)游離二氧化硅前處理工作站依據(jù)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過(guò)程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過(guò)濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過(guò)程無(wú)需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。

訪問(wèn)次數(shù)：273 產(chǎn)品價(jià)格：面議 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家 更新日期：2025-02-08

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HD-Si12全自動(dòng)游離二氧化硅前處理儀

全自動(dòng)游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過(guò)程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過(guò)濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過(guò)程無(wú)需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。

訪問(wèn)次數(shù)：292 產(chǎn)品價(jià)格：面議 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家 更新日期：2025-02-08

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HD-Si12游離二氧化硅前處理儀

游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國(guó)家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場(chǎng)所空氣中粉塵測(cè)定第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動(dòng)完成添加焦磷酸、自動(dòng)加熱攪拌、自動(dòng)升溫、15分鐘消解過(guò)程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動(dòng)降溫、自動(dòng)注水、自動(dòng)復(fù)溫、自動(dòng)過(guò)濾、自動(dòng)清洗等功能，整個(gè)過(guò)程無(wú)需人員值守，實(shí)現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動(dòng)化。

訪問(wèn)次數(shù)：438 產(chǎn)品價(jià)格：面議 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家 更新日期：2025-02-08

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